鹽霧腐蝕試驗(yàn)箱實(shí)驗(yàn)水溶液要用氧化鈉和水開(kāi)展配制，金屬材料的鹽霧腐蝕屬電化學(xué)反應(yīng)，鹽中殘?jiān)氖嵌嗌賹?duì)鹽霧測(cè)試結(jié)果有非常大危害，如：NaI過(guò)多時(shí)，無(wú)形之中會(huì)提升金屬材料間的電勢(shì)差或使金屬材料產(chǎn)生維護(hù)表層，進(jìn)而危害金屬材料腐蝕深度;Cu、Ni正離子具備加快腐蝕和影響實(shí)驗(yàn)結(jié)果的功效，尤其是Ni涂層、Cr涂層，與具體標(biāo)準(zhǔn)下個(gè)人所得結(jié)果的可比性差，使中性化鹽霧測(cè)試的可信性較差，因而務(wù)必嚴(yán)控Cu、Ni殘?jiān)煞帧?br />  

 

　　德國(guó)大眾和荷蘭PSA的操縱內(nèi)容大概非常，僅僅殘?jiān)目偰栙|(zhì)量各有不同，二者之間的關(guān)聯(lián)等同于分析純NaCl與優(yōu)級(jí)純NaCl的差別。

 

　　日產(chǎn)規(guī)范的內(nèi)容與現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)的GB1266-2006《化學(xué)試劑氯化鈉》大概非常，但GB1266-2006僅對(duì)碘化物有規(guī)定，對(duì)Cu、Ni則無(wú)規(guī)定。日產(chǎn)規(guī)范對(duì)鹽霧腐蝕試驗(yàn)箱自來(lái)水的規(guī)定極為嚴(yán)苛，其自來(lái)水規(guī)范等同于GB/T6682-2008《分析實(shí)驗(yàn)室用水規(guī)格和試驗(yàn)方法》規(guī)范中的二級(jí)水。這與日產(chǎn)對(duì)NaCl中殘?jiān)煞值囊?guī)定比較肥款、必須嚴(yán)格控制水里的導(dǎo)電率相關(guān)。這類嚴(yán)苛的實(shí)驗(yàn)自來(lái)水標(biāo)準(zhǔn)可能大大增加應(yīng)用日產(chǎn)規(guī)范的鹽霧測(cè)試成本費(fèi)。